《应用光学》（双月刊）创刊于1980年，是由中国兵器工业集团公司主管、中国兵工学会和中国兵器工业第二〇五研究所主办的综合性技术类期刊。办刊宗旨：是促进学科发展，繁荣学术交流。基本方针：认真贯彻“双百”方针以及国家科技出版业的各项方针政策，实施“科教兴国”战略，重点反映光电子技术国内外的发展状况、研究水平、应用情况，密切跟踪国外高新技术的研究动态，推动我国光电子技术的发展，打造科技成果转化平台，为我国国防现代化与经济建设服务。内容涵盖：光 电系统工程、光机电一体化、光电跟踪测量、光电稳瞄、夜视成像、光学设计、激光应用、红外应用、光纤应用、薄膜光学、光电器件、特种光学工艺与加工等专业技术领域。2006年4月被收录为“中国科技核心期刊”，2008年12月被收录为“中文核心期刊”，并被美国《化学文摘》（CA）、《剑桥科学文摘》（CSA）、俄罗斯《文摘杂志》（AJ）、英国《科学文摘》（INSPEC）等国际重要检索机构收录。读者对象：从事光电子技术理论研究、工程设计与管理、教学、试验和产品开发的科技人员、管理人员及大专院校师生。主要栏目：综述、理论研究、微光技术、激光技术、光纤技术、图像处理、光电仪器。